PHASE SHIFT MASK（PSM掩模），通过MOSI层产生180°的相位差以降低光的衍射作用，从而提高掩模图形分辨率

        相移掩模技术优点：减少临近效应，利用光的相干性，抵消部分衍射扩展效应，改变空间光强分布，使更多的能量从低频分配到高频上，弥补投影物镜通低频阻高频的缺点，提高空间图像的反差，改变像质，使分辨率和焦深增大